设备简介：

卢瑟福背散射(RBS)是一种离子束分析技术。在RBS测量中，加速器产生的高能量(MeV)He+离子通过分析磁铁入射样品，分析背散射粒子产生的能量及分布情况。一般用于薄膜成份深度分析，分析深度约1um，薄膜小于1毫米厚。

技术指标：

1、信号检测：背散射粒子；

2、元素检测：B-U；

3、分析灵敏度：1 %～0.1 %；

4、深度辨析率：50 - 200 Å (±10 Å 精确度)。

主要功能：

卢瑟福背散射(RBS)技术是固体表面研究不可缺少与不可替代的分析手段，用于薄膜成份分析，背散射分析具有快速、定量、无损等特点，同时能多元素分析。主要分析项目为：

1、薄膜组成成份/厚度；

2、区域浓度测定；

3、薄膜密度测定（已知厚度）。

应用领域：

材料科学：如成分检测、半导体工艺等。