设备简介：

我所1991建成的一台实验型多用途低能100KeV电磁同位素分离器。离子注入，是将某种元素的原子进行电离，并使其在电场中进行加速，获得一定的速度后射入固体材料表面，以改变这种材料表面的物理或化学性能的一种技术。既可用作一台同位素分离器，也可用作一台离子注入装置。建立初期，应用中开展了大量的研究工作及对外服务。近年分离器主要用途集中于离子束辐照，新建了可控温的高温离子束辐照靶室。

技术指标：

1、离子种类：多种气态与固体的元素；

2、加速电压：0.5 KeV~100 KeV，连续可调；

3、束流强度：10μA~200μA，连续可调；

4、质量分离度：焦平面的质量分离度D=1500mmＸ△M/M；

5、质量分辨率；焦平面上离子束位移D⊥=0.5mm。

主要功能：

离子束辐照，辐照温度：常温~600℃；扫描最大范围：20Ｘ20mm可调

应用领域：

离子溅射研究，离子注入材料改性、纳米材料研究、离子束辐照损伤研究、摩斯鲍尔样品制备。